В последние годы радиационно-пучковые технологии находят свое применение для получения пленок и покрытий, ионов, которые получают в вакуумно-электродуговых и ионно-плазменных ускорителях, и кластеров атомов, полученных в плазмодинамических ускорителях. Примечательной особенностью ионно-плазменных технологий получения покрытий является то, что в одной установке возможно осуществление предварительной чистки поверхности, нанесения слоев и бомбардировка этих слоев ионами.
Радиационно-пучковые технологии наиболее эффективно способны изменить структуру поверхностных слоев, поскольку они позволяют проводить сверхбыструю закалку узких слоев сплавов, включая и сплавы в жидком состоянии. В ходе этого процесса происходит изменение структуры – аморфизация, квазипериодические или многозонные структуры, измельчение зерна.
Существует много различных видов радиационно-пучковых технологий, но у всех этих видов есть несколько общих показателей – высокие плотности мощности и энергии, высокие скорости закалки и нагрева, высокие градиенты температуры.
При передаче энергии в твердом теле каждая радиационно-пучковая технология имеет свои особенности воздействия на твердое тело. По этой причине существуют отличия в характере энерговыделения по глубине мишени и в распределении температуры и термонапряжений в твердом теле. Только при электронной обработке можно достичь максимального проникновения в глубину мишени.
